广西真空镀膜设备的发展

【磁控溅射镀膜的历史】： 磁控溅射技术作为一种十分有效的薄膜沉积方法,被普遍地应用于许多方面，特别是在微电子、光学薄膜和材料表面处理等领域。1852年Grove首ci描述溅射这种物理现象,20世纪40年代溅射技术作为一种沉积镀膜方法开始得到应用和发展。60年代后随着半导体工业的迅速崛起,这种技术在集成电路生产工艺中,用于沉积集成电路中晶体管的金属电极层,才真正得以普及和guang泛的应用。磁控溅射技术出现和发展,以及80年代用于制作CD的反射层之后,磁控溅射技术应用领域得到极大地扩展,逐步成为制造许多产品的一种常用手段。 【磁控溅射原理】: 电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子。氩离子在电场作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶原子，靶原子沉积在基片表面形成膜。二次电子受到磁场影响，被束缚在靶面的等离子体区域，二次电子在磁场作用下绕靶面做圆周运动，在运动过程中不断和氩原子发生撞击，电离出大量氩离子轰击靶材。 【磁控溅射优缺点】： 优点：工艺重复性好，薄膜纯度高，膜厚均匀，附着力好。 缺点：设备结构复杂，靶材利用率低。成都真空镀膜设备厂家有哪些？广西真空镀膜设备的发展

【真空镀膜电阻加热蒸发法】：电阻加热蒸发法就是采用钨、钼等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让电流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入坩锅中进行间接加热蒸发。利用电阻加热器加热蒸发的镀膜设备构造简单、造价便宜、使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对膜层质量要求不太高的大批量的生产中。目前在镀铝制品的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的Zui高温度有限，加热器的寿命也较短。近年来，为了提高加热器的寿命，国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。重庆真空镀膜设备上市公司真空镀膜设备技术教程。

【真空镀膜设备之真空的测量】： 真空计： A、热偶规、皮拉尼规、对流规： 用来测粗真空的真空计，从大气到1E&5Torr，精度一般在10%，皮拉尼规精度高的可到5%, 反应较慢，受温度变化的影响较大。 B、离子规： 用来测高真空或超高真空的真空计，热灯丝的离子规测量范围一般从1E&4到1E&9Torr，特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr，精度在10%~20%，灯丝在工作时遇到大气会烧毁；冷阴极的离子规一般可以测到1E&11Torr，精度在20%~50%，特别是超高真空下测量精度很差，需要高压电源，探头内有磁铁，使用时不能用于某些无磁的场合。 C、电容式压力计： 探头Zui大压力从25000Torr到0.1Torr，动态范围大约104范围，比如，1Torr量程的Zui低是5E&4Torr，通常精度在读数的0.25%，可以高到0.15%。 D、宽量程真空计： 皮拉尼规和热灯丝离子规的组合，两个规可以自动切换，在低真空时切换到皮拉尼规，高真空时可切换到离子规。

【真空镀膜之真空的概念】： “真空”是指在给定空间内低于一个大气压力的气体状态，也就是该空间内气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。不同的真空状态，就意味着该空间具有不同的分子密度。在标准状态（STP：即0℃，101325Pa，也就是1标准大气压，760Torr）下，气体的分子密度为2.68E24/m3，而在真空度为1.33E&4 Pa（1E&6Torr）时，气体的分子密度只有3.24E16/m3。完全没有气体的空间状态为Jue对真空。Jue对真空实际上是不存在的。国产真空镀膜设备哪家好？

【真空镀膜设备之低温泵】： 低温泵：低温泵分为注入式液氦低温泵和闭路循环气氦制冷机低温泵两种。主要用于高真空或超高真空，属于干泵，工作方式为气体捕集。极限真空&6~&9Torr。 用低温介质将抽气面冷却到20K 以下，抽气面就能大量冷凝沸点温度比该抽气面温度高的气体，产生很大的抽气作用。这种用低温表面将气体冷凝而达到抽气目的的泵叫做低温泵，或称冷凝泵。低温泵可以获得抽气速率Zui大、极限压力Zui低的清洁真空，guang泛应用于半导体和集成电路的研究和生产，以及分子束研究、真空镀膜设备、真空表面分析仪器、离子注入机和空间模拟装置等方面。 真空镀膜设备品牌排行。广西真空镀膜设备的发展

真空镀膜机故障维修技巧有哪些？广西真空镀膜设备的发展

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜外色斑】： 色斑（也称膜色亚克、烧蚀）是指镜片上的膜色局部变异。有膜内色斑和膜外色斑二种。 膜外色斑改善对策： 1. 对减反膜，设计条件许可时，外层加以SiO2层，10nm左右即可（一般的外层膜是MgF2）。使外层趋于光滑、致密、减少有害物质的侵蚀。 2. 适当降低蒸镀速率（在一定范围内），提高膜层光滑度，减少吸附。 3. 镜片在出罩后，待冷却后再下伞和擦拭。 4. 镜片在出罩后，放置在洁净干燥的场合待冷却。减少污染可能。 5. 用碳酸钙粉，轻擦去除外层附着物。 6. 改善工作环境的湿度、温差 7. 改善充气口附近的环境，使充入的大气干燥、洁净。 8. 工作人员的个人卫生改善 9. 检讨真空室返油状况，防止返油。 10. 适当降低基片温度。 11. 改善膜系，取消太薄的膜层，根据硝材特性，选择合适的膜层材料。广西真空镀膜设备的发展